机译:单源前驱体W(N〜tBu)_2(NEt_2)_2的三元WC_xN_y薄膜生长
Department of Applied Chemistry, National University of Kaohsiung, Kaohsiung 811, Taiwan, R.O.C.;
tungsten nitride; tungsten carbonitride; chemical vapor deposition;
机译:单源前驱体W(N〜tBu)_2(NEt_2)_2的三元WC_xN_y薄膜生长
机译:叔丁基硫代铜(I)铜簇作为高质量菱锰矿薄膜的单源前体:膜生长和微结构控制
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机译:基于立体阻碍位配体的单源前驱体生长II-VI薄膜
机译:固态材料的分子前体:挥发性无水金属硝酸盐作为单源前体分子,用于化学气相沉积金属氧化物薄膜
机译:Eumelanin前体2-羧基-56-二羟基吲哚(DHICA)作为三元(PEDOT:PSS / Eumelanin)薄膜中的掺杂因子以增强电导率
机译:通过使用新的单源铜硫醇前体的气溶胶辅助喷雾热解玻璃上高度取向的Chalocite薄膜的生长
机译:基于空间阻碍的配位体来自单源前体的II-VI薄膜的生长