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Nitrogen in Silicon

机译:硅中的氮

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摘要

Liquid silicon has been exposed to gaseous ambients containing varying concentrations of N2 or NH3. Under certain conditions, Si3N4 needles may be grown on the surface and into the body of the melt. The molten zone of silicon was supported between two rods of solid silicon. We have found that the concentration of nitrogen in molten silicon which is saturated with respect to silicon nitride at a temperature near the melting point of silicon is around 1019 atoms per cm3. During the freezing of the melt, Si3N4 precipitates from the supersaturated liquid phase. The concentration of electrically active impurity states in silicon grown from melts containing around 1019 atoms per cm3 of nitrogen is less than 1012 atoms per cm3.
机译:液态硅已暴露于含有变化浓度的N2或NH3的气体环境中。在某些条件下,Si3N4针可能会在表面上生长并进入熔体。硅的熔融区支撑在两根固态硅棒之间。我们已经发现,在接近硅熔点的温度下,相对于氮化硅饱和的熔融硅中的氮浓度约为1019原子/ cm 3。在熔体冻结期间,Si3N4从过饱和液相中沉淀出来。从每立方厘米约1019个原子的熔体中生长的硅中的电活性杂质态浓度小于每立方厘米1012个原子。

著录项

  • 来源
    《Journal of Applied Physics》 |1959年第3期|共5页
  • 作者

    Kaiser W.; Thurmond C. D.;

  • 作者单位

    Bell Telephone Laboratories, Inc., Murray Hill, New Jersey;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
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