Bell Telephone Laboratories, Inc., Murray Hill, New Jersey;
机译:氮对多晶硅/掺氮硅薄膜热处理过程中硼扩散的影响
机译:初始合金中硅含量对氮素硅铁燃烧过程中氮化硅合成的影响
机译:升高温度下氮掺杂Czochralski硅消除氮氧浅热供体的机制
机译:密度泛函理论研究氮掺杂硅中氮氧缺陷的振动光谱
机译:钛硅氮和钽硅氮作为扩散阻挡层的发展。
机译:合成含磷的新型阻燃剂氮硅及其在环氧树脂中的应用
机译:不同硅氮施肥条件下土壤和高原水稻的硅含量
机译:硼 - 氮,硼 - 碳,硅 - 氮和硼 - 硅 - 碳体系中合金的热物理性质