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Solubility Interactions in Compensated, Heavily Doped Germanium

机译:补偿的重掺杂锗中的溶解度相互作用

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摘要

The solubility of the two donors, arsenic and antimony, in Ge at 870°C was enhanced by the acceptor dopant Ga at concentrations ≥1019 cm-3. The observed enhancement is in agreement with theory of the dopant‐carrier ionization equilibrium in the Boltzmann approximation and confirms the requirement of the theory that the solubility enhancement depend only on the net carrier concentration and not on the chemical identity of the donor. A contrary result would have been likely, if donor‐acceptor complexes played an important role in these solubility effects. The experimentally determined intrinsic carrier concentration at 870°C is ni=1.8×1019 cm-3 compared to the extrapolated Hall value of ni∼1.3×1019 cm-3. The indicated extrinsic behavior implies that p‐n junctions persist in very heavily doped germanium to the melting point.
机译:浓度≥1019cm-3的受主掺杂剂Ga增强了砷和锑这两个施主在锗中的溶解度(870°C)。观察到的增强与玻耳兹曼近似中的掺杂物-载体电离平衡理论相吻合,并证实了对理论的要求,即溶解度的增强仅取决于净载流子浓度而不取决于施主的化学特性。如果供体-受体复合物在这些溶解度影响中起重要作用,则可能会产生相反的结果。与外推的ni〜1.3×1019 cm-3霍尔值相比,实验确定的在870°C时本征载流子浓度为ni = 1.8×1019 cm-3。所指示的外在行为表明,p-n结在重掺杂锗中一直保持到熔点。

著录项

  • 来源
    《Journal of Applied Physics》 |1965年第1期|共3页
  • 作者

    McCaldin J. O.;

  • 作者单位

    North American Aviation Science Center, Thousand Oaks, California;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
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