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Crystallography of SiP and SiAs Single Crystals and of SiP Precipitates in Si

机译:SiP和SiAs单晶以及Si中SiP沉淀的晶体学

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摘要

Transmission electron microscope examinations of silicon single crystals, phosphorus‐diffused at low temperatures from anodic oxide films as phosphorus sources, showed the presence of crystallographically oriented precipitate. X‐ray and electron diffraction investigations of SiP and SiAs single crystals prepared by a vapor‐growth method revealed the orthorhombic crystal structure of the as‐grown compounds. Using these structure data, the precipitate in the diffused silicon could be identified by electron diffraction as SiP. The orientation relationship SiP‐precipitate/Si‐matrix was determined.
机译:透射电子显微镜检查的硅单晶在低温下从作为磷源的阳极氧化膜中扩散出来的磷,表明存在晶体取向的沉淀。通过气相生长法制备的SiP和SiAs单晶的X射线和电子衍射研究显示了所生长化合物的正交晶体结构。利用这些结构数据,可以通过电子衍射将扩散的硅中的沉淀物识别为SiP。确定了取向关系SiP沉淀/ Si矩阵。

著录项

  • 来源
    《Journal of Applied Physics》 |1966年第13期|共5页
  • 作者

    Beck C. G.; Stickler R.;

  • 作者单位

    Physical Metallurgy, Westinghouse Research Laboratory, Pittsburgh, Pennsylvania;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
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