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机译:通过离子轰击生长渗氮表面层
IBM Research Laboratory, San Jose, California 95114;
机译:低能离子轰击氮化铬层引起的表面化学变化
机译:金属有机化学气相沉积低能Ga离子注入对氮化硅表面氮化镓层选择性生长的影响
机译:离子轰击产生的非晶硅层表面激发的表面布里渊散射研究
机译:氩离子轰击对离子渗氮Cr-Mo低碳钢表面层的影响
机译:半导体表面氮化物薄膜的生长和表征以及含氮绝缘层的表征。
机译:钛合金激光表面熔化和激光表面氮化处理产生的表面层的光学性能研究
机译:氮化物半导体表面。低温沉积层对蓝宝石族氮化族生长的影响。