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机译:空位对掺锗切克劳斯基硅中氧沉淀的影响
State Key Laboratory of Silicon Materials and Department of Materials Science and Engineering, Zhejiang University, Hangzhou 310027, People’s Republic of China;
机译:空位对掺锗切克劳斯基硅中氧沉淀的影响
机译:10〜(20)cm〜(-3)掺锗切克劳斯基硅中的氧沉淀
机译:掺锗的切克劳斯基硅中氧沉淀物的高温成核
机译:掺锗的直拉硅中的铜沉淀
机译:切克劳斯基硅中氧沉淀的模型。
机译:通过闪速纳米沉淀制备的二维MnAl层状双氧化物中增强的氧空位提供了NH3对NOx的高选择性催化还原
机译:快速热处理对重型砷和锑的氧气沉淀的影响掺杂Czochralski硅
机译:碳氧复合物作为Czochralski硅中氧沉淀的核。