首页> 外文期刊>Journal of Applied Physics >High-frequency magnetic properties of Zn ferrite films deposited by magnetron sputtering
【24h】

High-frequency magnetic properties of Zn ferrite films deposited by magnetron sputtering

机译:磁控溅射沉积锌铁氧体薄膜的高频磁性能

获取原文
获取外文期刊封面目录资料

摘要

The effect of thermal annealing on structural and magnetic properties has been investigated for Zn ferrite films deposited on Si (111) substrates using radio frequency magnetron sputtering. The saturation magnetization at room temperature was enhanced upto 303 emu/cm3 by annealing at relatively low temperature of 200 °C and decreased at higher temperatures. The complex permeability μ=μ′-iμ″ values of the ferrite films as-deposited and annealed at 200 and 400 °C were measured at frequency upto 5 GHz. These films exhibited better high-frequency properties, especially, the film annealed at 200 °C had a large μ′ of 19.5 and high resonance frequency fr of 1.61 GHz. And the reason was investigated preliminarily based on the bianisotropy model.
机译:对于使用射频磁控溅射沉积在Si(111)衬底上的Zn铁氧体薄膜,已经研究了热退火对结构和磁性的影响。通过在200 C的相对低温下退火,室温下的饱和磁化强度提高到303 emu / cm3,而在较高的温度下,饱和磁化强度降低。在高达5 GHz的频率下测量在200和400°C下沉积并退火的铁氧体膜的复磁导率μ=μ'-iμ''值。这些膜表现出更好的高频特性,特别是,在200℃下退火的膜具有19.5的大μ'和1.61GHz的高共振频率fr。并基于双各向异性模型对原因进行了初步研究。

著录项

  • 来源
    《Journal of Applied Physics》 |2010年第4期|共页
  • 作者

  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号