首页> 外文期刊>Journal of Applied Physics >Tight-binding analysis of the electronic states in AlAs with N isoelectronic impurities
【24h】

Tight-binding analysis of the electronic states in AlAs with N isoelectronic impurities

机译:含N等电子杂质的AlAs中电子态的紧密结合分析

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

Incorporation of nitrogen (N) atoms into III–V semiconductors significantly changes their electronic structures. The aim of this study was to assess the electronic states in AlAs that contained N impurities. An sp3s* tight-binding model along with valence-force-field strain calculations were used to obtain the energy levels in N-doped AlAs. The calculations showed that an isolated N atom formed a resonant state above the conduction band edge in AlAs. In contrast, NN1[110] and NN4[220] pairs formed bound states inside the band gap. The formation of two bound states was consistent with the photoluminescence spectrum of N δ-doped AlAs.
机译:将氮原子掺入III-V半导体中会极大地改变其电子结构。这项研究的目的是评估AlAs中含有N杂质的电子态。使用sp 3 s * 紧密结合模型以及化合价-力场应变计算来获得N掺杂AlAs中的能级。计算表明,孤立的N原子在AlAs的导带边缘上方形成了共振态。相反,NN1 [110]和NN4 [220]对在带隙内形成束缚态。两个结合态的形成与Nδ掺杂的AlAs的光致发光光谱一致。

著录项

  • 来源
    《Journal of Applied Physics》 |2014年第12期|1-5|共5页
  • 作者

  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号