...
首页> 外文期刊>Journal of Applied Physics >Light scattering from dislocations in silicon
【24h】

Light scattering from dislocations in silicon

机译:来自硅中位错的光散射

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
   

获取外文期刊封面封底 >>

       

摘要

Nondecorated glide dislocations in Czochralski grown silicon have been studied by laser scattering tomography technique. Dependence of intensity of scattered light on polarization of the incident light has been measured for different orientations of the dislocation line and Burgers vector. Detailed theory of light scattering by dislocation in silicon crystals is presented. It is shown that by combination of polarization and tomography measurements it is possible to determine slip system of nondecorated mixed dislocation in Si.
机译:切克劳斯基(Czochralski)生长的硅中未修饰的滑移位错已通过激光散射层析成像技术进行了研究。对于位错线和Burgers矢量的不同方向,已经测量了散射光的强度对入射光的偏振的依赖性。提出了由位错在硅晶体中散射的详细理论。结果表明,通过极化和层析成像测量的结合,可以确定Si中未修饰混合位错的滑移系统。

著录项

  • 来源
    《Journal of Applied Physics》 |2010年第9期|p.093525.1-093525.7|共7页
  • 作者单位

    SOITEC S.A., Pare Technologique des Fontaines, F-38190 Bernin, France,Faculte des Sciences et Techniques, Institut Matdriaux Microilectronique Nanosciences de Provence (IM2NP), UMR 6242 CNRS, Aix-Marseille Universite, de St Jerome, F-13397 Marseille, France;

    SOITEC S.A., Pare Technologique des Fontaines, F-38190 Bernin, France;

    SOITEC S.A., Pare Technologique des Fontaines, F-38190 Bernin, France;

    Faculte des Sciences et Techniques, Institut Matdriaux Microilectronique Nanosciences de Provence (IM2NP), UMR 6242 CNRS, Aix-Marseille Universite, de St Jerome, F-13397 Marseille, France;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号