机译:铯存在下的碳化硅氧化:建模和分析
GE Global Research Center, 122 EPIP, Whitefield Road, Bangalore 560066, Karnataka, India;
rnGE Global Research Center, Niskayuna, New York 12309, USA;
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机译:反应烧结碳化硅和单晶4H碳化硅阳极氧化抛光表面性能的比较分析
机译:关于在6H-碳化硅[功率MOSFET]上的热生长氧化物中存在铝
机译:碳化硅碳化硅和氧化硅涂层高温氧化行为,提高其对高温氧化的抗性
机译:碳化硅的钠增强氧化的原子尺度建模与分析
机译:研究4H-碳化硅-碳化硅上低温原子沉积的氧化物及其对碳化硅/二氧化硅界面的影响。
机译:挪威碳化硅行业中纤维结晶二氧化硅碳化硅和二氧化硫的暴露
机译:反应烧结碳化硅和单晶4H碳化硅阳极氧化抛光表面性能的比较分析
机译:含铝的二氧化碳和碳粉在氮气氛下生成的2H型碳化硅粉末