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机译:RuCoCr-氧化物中间层对CoCrPt-SiO_2垂直记录介质的生长,微观结构和记录性能的影响
Data Storage Institute, (A~*STAR) Agency for Science, Technology and Research, 5 Engineering Drive I,Singapore 117608, Singapore;
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机译:RuCoCr-氧化物中间层对CoCrPt-SiO2垂直记录介质的生长,微观结构和记录性能的影响
机译:双Ru中间层对CoCrPt-SiO_2垂直记录介质的磁性能和记录性能的影响
机译:合成成核层对CoCrPt-SiO_2垂直记录介质的微观结构,磁性能和记录性能的影响
机译:使用Ru-SiO_2,Cocrpt-SiO_2垂直记录介质的中间层厚度降低
机译:具有超薄籽晶层的钴基多层膜,用于垂直磁记录介质。
机译:Ru中间层的斜入射溅射用于垂直记录介质中晶间交换的解耦
机译:粒度垂直磁记录介质中的晶间交换耦合的减少^ ^ mdash;将在高Ar气体压力下沉积的薄层插入记录层^ ^ mdash的初始生长区域中;