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机译:热退火对注入carbon的碳掺杂富硅氧化物薄膜的光致发光性能的影响
College of Nanoscale Science and Engineering, The University at Albany-SUNY, Albany,New York 12203, USA;
IBM Microelectronics, Hopewell Jct., NY 12533. Electronic;
College of Nanoscale Science and Engineering, The University at Albany-SUNY, Albany,New York 12203, USA;
College of Nanoscale Science and Engineering, The University at Albany-SUNY, Albany,New York 12203, USA;
机译:金属蒸气真空电弧离子源注入制备掺-富硅二氧化硅/硅薄膜
机译:快速热退火对碳化硅表面上lin,钛和氧化oxide薄膜介电膜性能的影响
机译:热退火对富硅氧化硅结构和光致发光性能的影响
机译:铒合金化对极端热条件下铝氮化铝薄膜结构和压电性能的影响
机译:用于增强离子注入薄膜和非晶混合氧化物薄膜晶体管性能的新型低温工艺。
机译:Nd含量对富硅二氧化硅薄膜结构和光致发光性能的影响
机译:厚度对掺富硅氧化硅薄膜性能的影响
机译:热历史对热生长二氧化硅,siO2超薄膜应力相关特性的影响