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On the origin of intense luminescence at 0.93 eV from multi-crystalline silicon

机译:多晶硅在0.93 eV处强烈发光的起源

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摘要

Strong luminescence emission at 0.93 eV appears on some specific grain boundaries in multicrystalline silicon. The emission is generated on spots, forming irregular pattern along those grain boundaries. The spots show also strong non-radiative recombination. Fitting the temperature dependence using an Arrhenius plot indicates a level of 120meV in the silicon band gap involved in that transition. We relate the appearance of the center to a specific dislocation network formed at slightly misoriented local Σ3 grain boundary parts.
机译:0.93 eV处的强发光发射出现在多晶硅的某些特定晶界上。发射在斑点上产生,沿着那些晶界形成不规则的图案。这些斑点还显示出强的非辐射重组。使用Arrhenius曲线拟合温度依赖性表明在该跃迁中涉及的硅带隙中有120meV的水平。我们将中心的外观与特定的位错网络联系在一起,该位错网络是在局部Σ3晶界偏误的地方形成的。

著录项

  • 来源
    《Journal of Applied Physics 》 |2013年第3期| 034902.1-034902.6| 共6页
  • 作者单位

    Joint Lab IHP/BTU, BTU Cottbus, Konrad-Wachsmann-Allee 1, 03046 Cottbus, Germany;

    Joint Lab IHP/BTU, BTU Cottbus, Konrad-Wachsmann-Allee 1, 03046 Cottbus, Germany;

    IHP - Innovations for High Performance Microelectronics, Im Technologiepark 25,15236 Frankfurt (Oder), Germany;

    Joint Lab IHP/BTU, BTU Cottbus, Konrad-Wachsmann-Allee 1, 03046 Cottbus, Germany;

    IHP - Innovations for High Performance Microelectronics, Im Technologiepark 25,15236 Frankfurt (Oder), Germany;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
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  • 正文语种 eng
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