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机译:InAs / GaSb超晶格中界面粗糙度散射限制的垂直和水平迁移率随温度的计算
University of Dayton Research Institute, 300 College Park Ave., Dayton, Ohio 45469-0072, USA;
Materials & Manufacturing Directorate, Air Force Research Laboratory, WPAFB, Ohio 45433-7707, USA;
机译:InAs-GaSbⅡ型超晶格在低温下由于界面粗糙度散射引起的垂直和面内电子迁移率研究[J.应用物理115,146101(2014)]
机译:评述“关于InAs-GaSb超晶格在低温下由于界面粗糙度散射引起的垂直和面内电子迁移率的研究” [J.应用物理114,053712(2013)]
机译:InAs / GaSb II型超晶格在低温下由于界面粗糙度散射而引起的垂直和平面电子迁移率的研究
机译:InAs / GaSb超晶格中载流子传输的界面粗糙度估算
机译:InAs / GaSb和基于InAs / InAsSb II型超晶格的红外器件的暗电流抑制,光学性能改进和高频操作
机译:具有交替界面的InAs / GaSb超晶格的面内光学各向异性
机译:InAs / GaSb超晶格的计算超晶格和界面声子
机译:Inas / Gasb超晶格中垂直和水平迁移率的计算(后印刷)。