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机译:在不同衬底温度下共溅射Co_2FeAI Heusler合金薄膜的结构和动态磁响应
Thin Film Laboratory, Department of Physics, Indian Institute of Technology Delhi, New Delhi 110016, India;
Thin Film Laboratory, Department of Physics, Indian Institute of Technology Delhi, New Delhi 110016, India;
机译:外延生长的Co_2FeAI Heusler合金薄膜的结构和磁性
机译:外延Co_2FeAI Heusler合金薄膜的静态和动态磁性能
机译:基于Fe2COSI Heusler合金薄膜的基础温度对基于旋转装置应用的结构,形态学,磁性和电性能的影响
机译:外延CO_2FEAI Heusler合金薄膜的静态和动态磁性特性
机译:分子束外延生长的砷化锰薄膜的结构和磁相变
机译:热氧化硅衬底上非常薄的共溅射Ti-Al和多层Ti / Al膜的相形成和高温稳定性
机译:通过AL2O3Tunnel屏障在Ge(001)基板上生长在Ge(001)基板上的Heusler合金CO2MNSI薄膜的磁性和电性能