机译:铜/低k互连结构中过程诱导的损伤的偏振红外光谱的显微红外光谱表征
Toray Research Center, Inc., 3-3-7 Sonoyama, Otsu, Shiga 520-8567, Japan;
Toray Research Center, Inc., 3-3-7 Sonoyama, Otsu, Shiga 520-8567, Japan;
Department of Chemistry, School of Science and Technology, Kwansei Gakuin University, 2-1, Gakuen, Sanda, Hyogo 669-1337, Japan;
机译:多重内反射红外光谱法评估等离子体对低k介电沟槽结构的损伤
机译:红外光谱,拉曼显微镜和偏振光显微镜的棉花和苎麻纤维的法医表征
机译:偏光显微镜,红外光谱和X射线粉末衍射在药物表征中的应用
机译:低k / Cu镶嵌结构中过程引起的损伤的提取
机译:通过飞行时间二次离子质谱,反射吸收傅里叶变换红外光谱和高分辨率电子能量损失光谱研究聚(二甲基硅氧烷)Langmuir单层膜中的聚合物三级结构。
机译:圆二色性和偏振红外光谱法进一步表征紫色膜蛋白二级结构
机译:圆二色性和偏振红外光谱法进一步表征紫色膜蛋白二级结构