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机译:多孔有机硅酸盐玻璃薄膜的无等离子体光化学蚀刻工艺
GLOBALFOUNDRIES, 257 Fuller Rd., Albany, New York 12203, USA;
GLOBALFOUNDRIES, 2070 Route 52, Hopewell Junction, New York 12533, USA;
机译:铜镶嵌工艺中三甲基硅烷基有机硅玻璃和有机氟化硅玻璃介电薄膜的优化与集成
机译:甲基末端和乙烯桥接在多孔有机硅酸盐玻璃膜上的影响:FTIR,椭圆孔隙瘤,发光数据集
机译:多孔有机硅酸盐玻璃薄膜在铂子层上的IR吸收带的介电贡献
机译:k≤2.4的多孔有机硅玻璃ILD薄膜的等离子体增强化学气相沉积
机译:在有机硅玻璃介电薄膜和新兴的非晶材料上的等离子体相互作用-进行孔密封和化学改性的方法。
机译:柔性器件亚稳相薄膜的光化学溶液处理:β-Bi2O3多晶型物
机译:甲基末端和碳桥接基团比率对多孔有机硅酸盐玻璃膜的关键特性的影响
机译:光化学蚀刻的选择性抑制:用于预蚀刻工艺选择的拉曼光谱