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写真乾板で発見した新素粒子の飛踖: 歴史的回顧

机译:摄影底片上发现的新基本粒子的日比基:历史回顾

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摘要

筆者は,欧米の研究者が能率の悪い過去の実験技術として一度は捨てた 写真乾板の技術を日本独自の方法で甦らせ,最高の空間分解能1μm (ミクロン)を持つ特性を活用して,素粒子の奥に潜む基本粒子の研究で 大きな貢献をした.特に,第4番目の基本粒子c(チャーム)を陽に含 む「祼のチャーム粒子」を1971年に発見し,世界に先駆けてその寿命 の詳しい分析を行った.本稿は一連の研究の詳細なレビューである.
机译:作者通过日本独有的方法,复兴了感光板技术,该技术曾经被西方研究人员废弃,成为过去效率低下的实验技术,并利用了具有1μm(微米)的最高空间分辨率的特性。他为研究位于粒子后面的基本粒子做出了重大贡献。特别是在1971年,我们发现了一个“棚子魅力粒子”,其中明确包含了第四种基本粒子c(魅力),并​​对其在世之前的寿命进行了详细分析。本文是对一系列研究的详细回顾。

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