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机译:反射X射线形貌观察低能氮离子注入硅表面附近的晶格畸变
Department of Electric Engineering, Faculty of Engineering, Kyushu Sangyo University, 2-3-1 Matsukadai, Higashi-ku, Fukuoka 813-8503, Japan;
silicon surface; ion implantation; nitrogen; lattice distortion; X-ray topography; asymmetric reflection;
机译:使用极不对称反射的X射线双晶体形貌测量硅晶体中的微小晶格畸变
机译:(100)硅晶体表面微小晶格畸变的X射线形貌观察
机译:消除通过双晶X射线形貌获得的单晶硅晶格畸变变化的外部成分
机译:氮低能离子注入对热解石墨的表面改性及退火作用
机译:晶体取向对面向等离子体的钨表面中注入低能氢,氦和氢/氦混合物的影响。
机译:通过使用仿生形貌增强硅胶生物相容性对新型乳房植入物表面进行图案化。
机译:同步辐射。 IV。同步辐射的物理性质研究。 6.使用成像板通过平面波X射线形貌的生长硅单晶的晶格变形分析。
机译:从X射线衍射数据中对离子注入晶体中的二维晶格畸变进行高分辨率映射