机译:离子束溅射沉积制备β-FeSi_2/ Si(100)界面结构的截面透射电镜
The Wakasa wan Energy Research Center, Tsuruga, Fukui 914-0192, Japan;
β-FeSi_2; ion beam sputter deposition; thin films; cross-sectional transmission electron microscope; sputter Ne~+ etching; surface treatment;
机译:基板的溅射刻蚀对离子束溅射沉积法制备的β-FeSi_2薄膜的微观结构的影响
机译:Si(1 1 1)衬底上外延β-FeSi_2的界面结构和应变的高分辨率透射电镜研究
机译:靶组成对离子束溅射沉积法制备β-FeSi_2结晶度的影响
机译:截面/聚焦离子束法,扫描电子显微镜和透射电子显微镜对骨/牙齿植入物界面的微观和纳米结构表征
机译:通过扫描透射电子显微镜提高界面结构和化学的原子尺度量化。
机译:聚焦电子束诱导沉积制备的MoO和MoC纳米结构的微观结构和传输特性
机译:聚焦离子束通过分子束外延生长的Ge(111)上的笼子2上的横截面透射电子显微镜制备
机译:离子辅助沉积和物理气相沉积Cr膜的横截面TEm(透射电子显微镜)研究