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机译:聚焦离子束注入Ga的诱导现象诱导石墨壳膜形成
The University of Tokyo, 7-3-1 Hongo, Bunkyo-ku, Tokyo 113-8658, Japan;
NEC Corporation, 34 Miyukigaoka, Tsukuba, Ibaraki 305-8501, Japan;
The University of Tokyo, 7-3-1 Hongo, Bunkyo-ku, Tokyo 113-8658, Japan;
The University of Tokyo, 7-3-1 Hongo, Bunkyo-ku, Tokyo 113-8658, Japan;
机译:Ga +聚焦离子束注入诱导的ZnO膜H 2刻蚀掩模
机译:Ga〜+聚焦离子束注入温度对a-SiC:H薄膜纳米光学图形制备的影响
机译:聚焦离子束引起的表面非晶化和镓注入-聚焦电子束诱导蚀刻的新见解和去除
机译:聚焦离子束诱导沉积的Pt膜的研究
机译:通过聚焦离子束注入和银金属化与薄膜硅化物层的集成形成纳米结构的硅化物。
机译:聚焦离子束引起的独立薄膜的偏转
机译:Ga +聚焦离子束注入温度对a-SiC:H薄膜中纳米级光学图案制备的影响
机译:聚焦离子束诱导低电阻率金膜的沉积。