...
机译:(Ni / Au)-lnAIGaN / GaN肖特基势垒二极管的不均匀势垒高度分析
Department of Micro and Nanosciences, Aalto University, Micronova, PL 13500, 00076 Aalto, Finland;
Department of Micro and Nanosciences, Aalto University, Micronova, PL 13500, 00076 Aalto, Finland;
Department of Micro and Nanosciences, Aalto University, Micronova, PL 13500, 00076 Aalto, Finland;
Semiconductor Physics Research Center, School of Semiconductor and Chemical Engineering,Chonbuk National University, Chonju 561-756, Republic of Korea;
Department of Micro and Nanosciences, Aalto University, Micronova, PL 13500, 00076 Aalto, Finland;
机译:具有改进的势垒高度的对数正态分布的非均匀Ni / GaN肖特基二极管的表征
机译:Se / n-GaN肖特基势垒二极管中非均匀势垒高度的电学性质和双高斯分布
机译:Au / n-GaP(100)肖特基势垒二极管中非均匀势垒高度的高斯分布
机译:在N型GaN肖特基势垒二极管上的氧化Ni / Au和Ni透明导电氧化物(TCOS)的参数提取,具有偏置依赖阻挡高度和不同温度的理想因子
机译:石墨烯/半导体肖特基结处的空间不均匀势垒高度。
机译:Ni / Pd / n-GaN肖特基势垒二极管的电荷传输结构和光学性质的中能碳和氮离子束诱导修饰
机译:错误:“表面处理对甘肖孔屏障二极管屏障高度的金属 - 工作函数依赖性的影响”AIP adv。 8,115011(2018)