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机译:使用紧凑的大气压介质阻挡放电装置对聚二甲基硅氧烷表面进行等离子处理,以提高附着力
Univ Estadual Campinas, Ctr Semicond Components, CP 6101, BR-13083870 Campinas, SP, Brazil;
Univ Estadual Campinas, Ctr Semicond Components, CP 6101, BR-13083870 Campinas, SP, Brazil;
Univ Estadual Campinas, Ctr Semicond Components, CP 6101, BR-13083870 Campinas, SP, Brazil;
Univ Estadual Campinas, Inst Fis Gleb Wataghin, BR-13083859 Campinas, SP, Brazil;
机译:大气压力下的介电阻挡放电等离子体增强松木表面的亲水性和附着力
机译:通过在大气压下使用介电势垒放电进行表面官能化来改善聚合物的电化金属的附着力
机译:大气压等离子体射流对玻璃和聚二甲基硅氧烷的表面处理及放电特性分析
机译:污染表面的非热等离子体处理:远程暴露于大气压介质屏障排出流出物
机译:大气压等离子体CVD工艺的设计,该工艺使用介电势垒放电沉积氮化硅薄膜。
机译:柔性表面介电阻挡放电装置在体外和体内对铜绿假单胞菌施用柔性表面介电阻挡放电装置产生的安全性和杀菌效果
机译:通过使用介电阻挡层的表面官能化改善聚合物金属金属化的粘附性
机译:用于大气压和亚大气压下介质阻挡放电等离子体执行器的仿真工具:sBIR第一阶段最终报告。