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机译:三维高纵横比蚀刻的光刻与地形协作模拟
Toshiba Memory Corp, Kawasaki, Kanagawa 2128583, Japan;
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机译:三维地形仿真模型:蚀刻和光刻
机译:用于蚀刻,沉积和光刻的统一模型的水平集方法Ⅱ:三维模拟
机译:通过使用严格的三维晶片形貌和光刻模拟,考虑局部反射率变化的双重图案的分割,重叠,缝合和工艺设计
机译:基于水平集方法的三维形貌模拟沉积和蚀刻过程
机译:具有表面电荷的高纵横比结构的湿法蚀刻COMSOL多发性模拟
机译:高纵横比和三维SU-8微/纳米结构的单光子多层干涉光刻
机译:用水平集方法对沉积和蚀刻过程进行三维地形模拟