机译:通过RF溅射沉积和p-NiO / n-ZnO异质结器件制造的ZnO:H薄膜的电性能
Tokyo Univ Sci, Fac Sci & Technol, Noda, Chiba 2788510, Japan;
Tokyo Univ Sci, Fac Sci & Technol, Noda, Chiba 2788510, Japan;
机译:氧气压力对全固态电致变色器件中用作透明电极的脉冲激光沉积制备的Al掺杂ZnO薄膜的电,光学和结构性能的影响
机译:射频磁控溅射制备ZnO / Si异质结器件电参数的确定
机译:铝掺杂ZnO,CuO及其使用旋转涂层和RF溅射技术制造的结构,光学和电性能
机译:射频磁控溅射制备钛酸钡铁电薄膜的电学性能
机译:RF溅射法制备Si / Ingan异质结太阳能电池:改进氮化铟镓(IngaN)薄膜的电气和光学性能
机译:原子层沉积制备的掺钛ZnO薄膜的结构电学和光学性质
机译:铝掺杂ZnO,CuO及其使用旋转涂层和RF溅射技术制造的结构,光学和电性能