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Scientists Develop Nano-Pattern Deposition

机译:科学家开发出纳米图案沉积

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摘要

A European Union (EU)-backed research project has developed new ways of applying patterns within deposited layers of nano-particles that can be adjusted to create special properties such as super-waterproofing. Hungarian and Finnish researchers working for the CompNanoALD have developed atomic layer deposition (ALD) techniques, which can "deposit one atomic layer of a material at a time in a step-wise manner." said Dr Imre Mikls Szilgyi, of Budapest University of Technology and Economics, in a European Commission note.
机译:欧盟(EU)支持的研究项目开发了在纳米粒子沉积层中应用图案的新方法,可以对其进行调整以创建特殊特性,例如超级防水。从事CompNanoALD工作的匈牙利和芬兰研究人员已经开发了原子层沉积(ALD)技术,该技术可以“一次逐步沉积材料的一个原子层”。布达佩斯科技经济大学的Imre Mikls Szilgyi博士在欧盟委员会的一份报告中说。

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  • 来源
    《International dyer》 |2013年第3期|4-4|共1页
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