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Crystalline and Optical Properties of ELO GaN by HVPE Using Tungsten Mask

机译:钨掩模的HVPE对ELO GaN的晶体和光学性能的影响

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摘要

The epitaxial lateral overgrowth (ELO) of GaN with a stripe tungsten (W) mask pattern is performed by hy- dride vapor phase epitaxy (HVPE) and the crystalline and op- tical properties are investigated compared with ELO GaN using SiO_2 mask by characterizations of X-ray rocking curve (XRC), Transmission electron microscopy (TEM) and low temperature cathodoluminescence (CL). A buried ELO structure of the W mask with a smooth surface is successfully obtained.
机译:通过氢化物气相外延(HVPE)执行带有条纹钨(W)掩模图案的GaN的外延横向过生长(ELO),并通过使用SiO_2掩模与ELO GaN进行了比较,研究了晶体和光学性能。 X射线摇摆曲线(XRC),透射电子显微镜(TEM)和低温阴极发光(CL)。成功地获得了具有光滑表面的W掩模的掩埋ELO结构。

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