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ScAlN/単結晶ダイャモンド構造を用いたSHF帯広帯域SAWデバイス

机译:采用ScAlN /单晶金刚石结构的SHF宽带SAW器件

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摘要

本研究では,高圧電性ScAIN薄膜/単結晶ダイヤモンド(SCD)基板構造SHF带広帯域SAWデバイス二ついて検討した結果を報告する.以前,ScAlN薄膜/6H-SiC基板構造を用いて,1GHz带において広帯域かつ高QなSAW共振子が実現できることを報告しているが,3GHz帯では大幅なQの劣化が見られた.ここでは基板材料の選択によるSAW特性の変化を検討することを目的としている.まず,ScAlN/SCD構造におけるSAW伝搬特性を理論解析し,ScAlN/6H-SiC構造と同程度の大きなSAW速度Vと電気機械結合係数K~2が同時に得られることを明らかにする.次に,ScAlN/SCD構造を利用してトランスバーサル型SAWフィルタを作製し,理論どおり大きなVとK~2が同時に得られることを確認する.更に,本構造の場合,3GHz带においてもSAWの伝搬損が小さいことを示す.最後に,同構造上に1ポートSAW共振子を作製し,3GHz帯においてもQの劣化が少なく,広帯域かつ高Qな高性能SAW共振子が実現できることを明らかにする.
机译:在这项研究中,我们报告了高压ScAIN薄膜/单晶金刚石(SCD)衬底结构SHF单宽带SAW器件的两项研究的结果。尽管已经报道可以实现具有高Q值的SAW谐振器,但是在3GHz频带中观察到Q的显着降低,其目的在于研究由于选择衬底材料而引起的SAW特性的变化。首先,我们从理论上分析了ScAlN / SCD结构中的SAW传播特性,并表明可以同时获得与ScAlN / 6H-SiC结构中的SAW速度V和机电耦合系数K〜2。可以肯定的是,通过使用ScAlN / SCD结构可以产生较大的横向SAW滤波器,并且根据该理论可以同时获得较大的V和K〜2。最后,我们证明了在相同的结构上制造一个1端口SAW谐振器,即使在3 GHz频带内,Q变差很小,也可以实现具有宽带和高Q的高性能SAW谐振器。

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