Al下地膜上へのSrAl_2O_4薄膜の剥離抑制の検討

摘要

In order to suppress that SrAl_2O_4 films on Al underlayer detach from substrate, SrAl_2O_4 thin films were attempted by post-annealing in vacuum of the films deposited on Al underlayer using reactive sputtering method. As a result, The Al film was effective to the crystallinity improvement, control of orientation and increase of the luminescence intensity of the SrAl_2O_4 film.%本研究では，Al薄膜の上にSrAl_2O_4薄膜をスパッタ堆積した後，熱処理を行う方法によるアSrAl_2O_4薄膜の剥離や亀裂の抑制の検討を行った。その結果，Al下地膜及びスパッタ膜堆積時の酸素分圧は，熱処理によりSrAl_2O_4薄膜を作製する場合の結晶性向上や配向性制御や剥離や亀裂の抑制，発光強度の増加に有効であった。