机译:利用异常霍尔效应评估复合垂直介质磁性能的方法
Hitachi Ltd., Central Research Laboratory, 2880 Kohzu, Odawara, Kanagawa 256-8510;
Hitachi Ltd., Central Research Laboratory, 2880 Kohzu, Odawara, Kanagawa 256-8510;
Hitachi Ltd., Central Research Laboratory, 2880 Kohzu, Odawara, Kanagawa 256-8510;
Hitachi Global Storage Technologies, 2880 Kohzu, Odawara, Kanagawa 256-8510;
anomalous hall effect; perpendicular magnetization component; cap layer; soft underlayer;
机译:一种利用异常霍尔效应评估复合垂直介质磁性能的方法
机译:利用异常霍尔效应研究双层垂直磁记录介质中存储层磁化过程的方法
机译:用异常霍尔效应评估超薄Co-Cr薄膜的垂直磁各向异性
机译:用异常霍尔效应评估超薄Co-Cr薄膜的垂直磁各向异性
机译:钴铬钽/钴(3)氧(4)/铂垂直磁性薄膜介质的结构和磁性能的研究以及超高密度磁性位图的MFM研究。
机译:一阶和二阶垂直磁各向异性的磁性结构中自旋霍尔效应引起的临界开关电流密度
机译:一种利用异常霍尔效应研究双层垂直磁记录介质中存储层磁化过程的方法