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Quantum Modeling of Carrier Transport through Silicon Nano-devices

机译:硅纳米器件中载流子传输的量子建模

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摘要

Drain-current-gate-voltage characteristics of nano-scale silicon MOSFETs have been calculated within non-equilibrium Green's function formalism to study crystalline orientation effects on ballistic hole current in ultrathin-body double-gate MOSFETs. A <110>-channel device on (110)-substrate is found to carry the highest current density. Device-characteristics difference between double-gate and gate-all-around MOSFETs is also discussed.
机译:已经在非平衡格林函数形式内计算了纳米级硅MOSFET的漏极电流门电压特性,以研究晶体取向对超薄双栅极MOSFET弹道电流的影响。发现(110)基板上的<110>通道设备具有最高的电流密度。还讨论了双栅和全栅MOSFET之间的器件特性差异。

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