RFマグネトロンスパッタリング法によるLiMn_2O_4薄膜の生成

摘要

Manganese oxides have been focused as a cathode material for Li secondary batteries. Preparation of LiMn_2O_4 thin films were tried by using a reactive sputtering method. The reactive sputtering method was used to compensate the oxygen deficiency of LiMn_2O_4 films during sputtering process. It was intended to prepare the LiMn_2O_4 films with stoichiometry.%Li二次電池の正極物質として、Mn酸化物が注目されている。この物質は材料費が安く、環境への影響も少ないという利点を持つ。本研究はスパッタリング法によるLiMn_2O_4薄膜の生成を目指した。LiMn_2O_4粉末をターゲット物質に使用し反応性スパッタリングを行った。反応性スパッタリングは，スパッタガスであるArにO_2ガスを混合し，酸素欠損を補い，科学量論的組成を持つ薄膜を作成する目的で使用した。