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銅表面酸化膜の構造調査

机译:氧化铜膜的结构研究

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摘要

An analytical study for the structure of oxide film on copper surface has been performed by both methods of contact resistance measurement and Auger electron spectroscopy(AES). Gold evaporated deposited film are covered on the oxide surface to reduce constriction resistance between moving contact gold wire and copper. Contact resistances were changed as oscillatory increasing as the past study. Furthermore, atoms of surface were detected and also thickness of surface film layers were measured by AES.%銅表面の酸化膜厚とその構造について、接触抵抗の測定・オージェ電子分光から検討した。また、過去のデ」タから酸化膜厚に対して接触抵抗のグラフが単調増加せず振動的に増加したことを検証した。接触抵抗は酸化膜厚を変化させ測定する。この際、酸化膜の皮膜抵抗のみを測定するため、銅の接触面に金を蒸着させた。これにより、接触抵抗から集中抵抗を減少させることができると考えられる。さらにオージェ電子分光で酸化膜の元素を検出し、構造解析を行った。
机译:通过接触电阻测量和俄歇电子能谱(AES)两种方法对铜表面氧化膜的结构进行了分析研究,蒸镀了金的沉积膜被覆盖在氧化表面上,以减小移动接触金线与金线之间的压缩电阻。与过去的研究一样,接触电阻随着振荡的增加而变化。通过AES检测绝对表面原子并通过AES测量表面膜层的厚度。%由俄歇电子能谱检查。另外,从过去的数据可以证明,相对于氧化膜厚度的接触电阻的曲线图不是单调增加而是振动增加。通过改变氧化膜的厚度来测量接触电阻​​。此时,将金气相沉积在铜的接触表面上以仅测量氧化膜的膜电阻。认为这可以从接触电阻减小集中电阻。此外,通过俄歇电子能谱法检测氧化膜的元素并进行结构分析。

著录项

  • 来源
    《電子情報通信学会技術研究報告》 |2008年第534期|p.41-44|共4页
  • 作者单位

    玉川大学 工学部 知能情報システム学科 〒194-8610 東京都町田市玉川学園 6-1-1;

    玉川大学 工学部 知能情報システム学科 〒194-8610 東京都町田市玉川学園 6-1-1;

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    矢崎総業株式会社 技術開発センター 〒410-1194 静岡県裾野市御宿 1500;

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  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类
  • 关键词

    接触抵抗; 銅酸化膜; 集中抵抗; 皮膜抵抗; オージェ電子分光;

    机译:接触电阻;氧化铜膜;集中电阻;膜电阻;俄歇电子能谱;
  • 入库时间 2022-08-18 00:37:07

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