A new method of polymer deposition was developed by combining physical vapor deposition of acryl monomer and ion irradiation to the substrate. In a high-vacuum chamber, zinc aery late (ZnAc) monomer was evaporated at a deposition rate of 0.8 nm/min, while nitrogen ions were irradiated on the substrate surface at a current density of 0.5 μA/cm~2 and energy of 500 to 2000 eV from an electron-bombardment type ion source. The films were prepared on Au-coated glass plates and PET films. Infrared spectra of the deposited films showed that the absorption of vinyl group decreases with increasing ion energy. It was also found that the solubility of the film to an organic solvent decreases and film surface roughness is improved with increasing ion energy. These results suggest that ion irradiation can assist the polymerization of deposited monomer, and is effective for preparing uniform and smooth polymeric thin films.%低分子モノマーの物理蒸着とイオン照射を組み合わせ，新規な高分子製膜技術を開発した．高真空槽内でモノマー材料として亜鉛アクリレート（ZnAc）を蒸着すると同時に，電子照射型イオン源を用いて基板表面に窒素イオンを照射した．基板材料としては，金蒸着ガラス基板とPETフイルムを用い，基板温度は室温とした．製膜条件としては，ZnAc蒸着速度を0.8nm/min，イオン電流を約0.5μA/cm~2，イオン加速電圧を500～2000Vとした．蒸着膜のIRスペクトルを測定した結果，イオンエネルギーを増大すると共にビニル基の吸収が減少した．さらにイオン照射によって膜は有機溶媒に不溶となり，表面粗さが減少することも観察された．これらの結果からイオン照射アシストを用いると，基板の表面改質に加えて基板表面での重合反応を促進でき，均質な高分子薄膜を形成するための新たな手法として利用できるものと期待される．
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