RFマグネトロンスパッタリング法によるTiO_2薄膜の生成と光触媒特性

摘要

本研究では，Rf マグネトロンスパッタリング法によるTiO_2 薄膜の低温生成について検討した．RF マグネトロンスパッタリング法により生成した薄膜は，非加熱基板上にアナターゼ結晶を形成させることができた．RF マグネトロンスパッタリング法により生成した薄膜の光励起親水特性は，UV 照射後30分で超親水状態を示した．有機物分解特性は，スパッタリング圧力10Pa で生成した薄膜の方が5Pa で生成した薄膜よりも高い活性指数を示した．また，非加熱基板上でも，高い有機物分解活性指数を示す薄膜が得られることが分かった．%Low-temperature preparation of the TiO_2 thin films was examined by using a RF magnetron sputtering method was examined. The thin film generated with the RF magnetron sputtering method. TiO_2 films of anatase structure could be prepared on the non-heated glass substrates. The photocatalytic properties of films were significant in the films prepared under the sputtering atmosphere of 10 Pa rather than 5 Pa. For the organic matter resolution characteristic, both anatase and rutile crystal structures showed high activities. For the optical excitation hydrophilicity characteristic, the anatase crystal was decent.