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高性能ZnO系FETの開発: デバイス応用と高周波特性

机译:高性能ZnO FET的开发:器件应用和高频特性

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摘要

Zinc Oxide (ZnO) has various advantages over other wide gap semiconductors. In order to evaluate its material feasibility, we exploited the device performance using heterostructure FETs for both DC and microwave characteristics. As one of the possible applications for ZnO-based FETs, we report on an implementation to bio-sensing devices.%酸化亜鉛(ZnO)は低温成膜が可能なワイドギャップ半導体で、ガラス基板上にスパッタ法などで多結晶膜を形成し、トランジスタを作製することが可能なため、将来、様々なデバイス応用が期待できる。ZnO系FETの潜在的な性能評価のため、MBE成膜した単結晶へテロ構造でFETを試作し、そのDCおよび高周波特性について評価した結果について述べる。さらに、センサーなどへの応用、スパッタ法など他の成膜方法で作製したデバイスの特性についても報告する。
机译:氧化锌(ZnO)与其他宽间隙半导体相比具有多种优势。为了评估其材料可行性,我们利用异质结FET利用器件的性能来实现直流和微波特性,作为基于ZnO的FET的可能应用之一, %氧化锌(ZnO)是可以在低温下形成的宽禁带半导体,并且可以通过在玻璃基板上通过溅射形成多晶膜来形成晶体管。因此,将来可以期待各种设备应用。为了评估基于ZnO的FET的潜在性能,制备了具有MBE沉积单晶异质结构的原型FET,并评估了其直流和高频特性。此外,我们还将报告传感器的应用以及通过其他成膜方法(例如溅射)制造的器件的特性。

著录项

  • 来源
    《電子情報通信学会技術研究報告》 |2010年第361期|p.55-60|共6页
  • 作者单位

    大阪工業大学 ナノ材料マイクロデバイス研究センター 〒535-8585 大阪市旭区大宮5-16-1;

    大阪工業大学 ナノ材料マイクロデバイス研究センター 〒535-8585 大阪市旭区大宮5-16-1;

    大阪工業大学 ナノ材料マイクロデバイス研究センター 〒535-8585 大阪市旭区大宮5-16-1;

    大阪工業大学 ナノ材料マイクロデバイス研究センター 〒535-8585 大阪市旭区大宮5-16-1;

    大阪工業大学 ナノ材料マイクロデバイス研究センター 〒535-8585 大阪市旭区大宮5-16-1;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类
  • 关键词

    酸化亜鉛; FET; センサー; MBE; スパッタ;

    机译:氧化锌;FET;传感器;MBE;溅射;
  • 入库时间 2022-08-18 00:31:59

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