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NH_3分解触媒を用いたInNのMOVPE成長

机译:NH_3分解催化剂对InN的MOVPE生长

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摘要

In order to increase the NH_3 decomposition rate in the MOVPE growth of InN, the employment of Pt catalyst has been proposed and experimentally demonstrated. Electrical and crystallographic properties of InN are markedly improved by using Pt catalyst. An electron mobility as high as 1340 cm~2/Vs and a tilt fluctuation as low as 8.63 arcmin have been obtained for InN films grown with Pt catalyst. The improvements of electrical and crystallographic properties of InN with increasing grown InN thickness have been also found.%NH_3を窒素源とするInNのMOVPE成長において、NH_3の分解率向上のためにPt触媒の導入を提案し検討した。Pt触媒の導入によって、InN膜の電気的特性ならびに結晶学的特性が向上することを確認した。電気的特性では電子移動度1340cm~2Nsを得た。結晶学的特性では8.63 arcminのTilt値を実現した。また、InN膜の厚膜化による電気的特性ならびに結晶学的特性の向上を確認した。
机译:为了提高InN的MOVPE生长中NH_3的分解速率,提出了Pt催化剂的使用方法并进行了实验证明.Pt催化剂显着改善了InN的电学和晶体学性能,电子迁移率高达1340 cm〜用Pt催化剂生长的InN薄膜获得了2 / Vs和低至8.63 arcmin的倾斜波动。随着InN厚度的增加,InN的电学和晶体学性能也得到了改善。为了提高MOVPE生长过程中NH_3的分解速率,提出并研究了Pt催化剂的引入。证实了通过引入Pt催化剂改善了InN膜的电性能和晶体学性能。在电学特性方面,获得了1340 cm2 Ns的电子迁移率。晶体学性质达到8.63弧分的倾斜值。此外,证实了通过增加InN膜的厚度改善了电性能和晶体学性能。

著录项

  • 来源
    《電子情報通信学会技術研究報告》 |2011年第264期|p.59-62|共4页
  • 作者单位

    福井大学大学院工学研究科 〒910-8507 福井県福井市文京 3-9-1;

    福井大学大学院工学研究科 〒910-8507 福井県福井市文京 3-9-1;

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    福井大学大学院工学研究科 〒910-8507 福井県福井市文京 3-9-1;

    福井大学大学院工学研究科 〒910-8507 福井県福井市文京 3-9-1;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类
  • 关键词

    MOVPE; InN; NH_3;

    机译:MOVPE;客栈;NH_3;
  • 入库时间 2022-08-18 00:31:11

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