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単結晶AIN バッファー層を用いた近紫外LED の特性

机译:使用单晶AIN缓冲层的近紫外LED的特性

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摘要

近紫外LEDを励起光源として用いた白色LEDは、演色性が高いことで知られているが、電流増大による効率低下が少ない特徴を生かして、高輝度な固体照明の実現も期待できる。高温成長AIN バッファー層を用いた低欠陥結晶成長技術と電流均一性に優れた素子構造を採用して、可視光LED 並みの効率を持つ390nm 帯の近紫外LED を作製し、光出力の電流依存性を調べた。その結果、量子井戸の厚膜化によって高電流領域における効率低下を抑制できることが分かり、0.35A および3A 動作時においてそれぞれ0.6W、4.3 Wの光出力が得られた。%We have developed near-UV LEDs which adopted high-quality GaN growth technique using high-temperature-grown A1N as a buffer layer and superior chip structure in current uniformity and realized similar efficiency as regular visible LEDs. Current dependence of light-output power revealed that degradation of an efficiency at high current region could be suppressed by using a thick quantum well and showed high power characteristics of 4.3 W at 3 A.
机译:已知使用近紫外LED作为激发光源的白色LED具有高的显色性,但是也可以期望利用效率随着电流的增加而降低很少的事实来实现高亮度固态照明。通过采用利用高温生长AIN缓冲层的低缺陷晶体生长技术和电流均一性优异的器件结构,可以制造出效率与可见光LED相当的390 nm波段近紫外LED,并且光输出取决于电流。我调查了性别。结果,发现可以通过使量子阱膜厚来抑制高电流区域中的效率降低,并且在0.35A和3A的操作下分别获得0.6W和4.3W的光输出。 %我们已开发出采用高品质GaN生长技术的近紫外LED,该技术使用高温生长的AlN作为缓冲层,并具有出色的电流均匀性芯片结构,并实现了与常规可见LED相似的效率。揭示了通过使用厚的量子阱可以抑制高电流区域效率的下降,并在3 A时显示出4.3 W的高功率特性。

著录项

  • 来源
    《電子情報通信学会技術研究報告》 |2011年第112期|p.25-28|共4页
  • 作者单位

    株式会社東芝 研究開発センター 〒212-0001 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1;

    株式会社東芝 研究開発センター 〒212-0001 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1;

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  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类
  • 关键词

    GaN; 紫外; LED; AIN バッファー層;

    机译:GaN;UV;LED;AIN缓冲层;
  • 入库时间 2022-08-18 00:30:45

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