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SiGe/Si細線導波路構造を用いた省電力光スィツチ•可変光減衰器

机译:使用SiGe / Si线波导结构的节能光开关和可变光衰减器

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摘要

For active optical waveguide devices on silicon (Si)-platform, highly efficient carrier accumulation in the waveguide region is the key to realize energy-saving and compact devices. We proposed a silicon-germanium (SiGe) / silicon (Si) waveguide structure to achieve such a purpose. In the proposed structure, a type-Ⅰ hetero-interface formed by SiGe and Si is expected to confine carriers effectively in the narrow-gap SiGe waveguide core. In this report, first we will investigate carrier accumulation effect of the structure by numerical simulation. And we will demonstrate low-power operation of a small-size optical switch and a variable optical attenuator (VOA) we fabricated. The fabricated Mach-Zehnder optical switch shows alow switching power of only 1.53 mW with a compact phase shifter length of 250 μm. The switching time of the optical switch is less than 4.6 ns. The fabricated VOA shows a 30-50% low-current operation compared to conventional Si waveguide VOA of the same device length. These results show that our proposed SiGe/Si waveguide structure holds promise for active devices with compact size and low operation power.%シリコンプラットフオーム上のキヤリァプラズマを利用した導波路型光アクティブデバイスの省電力化•小型化には,高効率なキャリア蓄積がキーとなる.それを可能とする構造として,我々は,SiGe/Si細線導波路構造を提案している.本提案構造は,SiGe/Siヘテロ構造のキャリア閉じ込め効果により,キャリアプラズマを利用するデバイスにおいて,SiGeよりなる導波路コア領域への高効率なキャリア注入が実現できる.本報告では,我々の提案構造について,数値シミュレーシヨンにおけるその効果の検証と,実際に作製した光スィツチおよび可変光減衰器(VOA)における小型,省電力動作,ならびに高速動作特性について報告する.SiGe/Si細線導波路光スィッチにおいて,位相シフタ長250μmと小型ながら,1.53mWの低消費電力でのスイッチング動作および,高速駆動時において4.6ns以下の高速スイッチングを実現した.また,SiGe/Si導波路型VOAにおいて,従来のSi細線構造VOAと比較して,同じ素子長において30-50%の省電流化を実現した.これらの結果は,我々の提案するSiGe/Si構造が,シリコンプラットフオーム上のアクティブデバイスの小型化,低電力化に有効であることを示した.
机译:对于硅(Si)平台上的有源光波导器件,波导区域中高效的载流子积累是实现节能和紧凑型器件的关键。我们提出了硅锗(SiGe)/硅(Si)波导结构来实现此目的。在提出的结构中,由SiGe和Si形成的Ⅰ型异质界面有望有效地将载流子限制在窄间隙SiGe波导核中。在本报告中,首先我们将通过数值模拟研究结构的载流子积累效应。我们将演示我们制造的小型光开关和可变光衰减器(VOA)的低功耗操作。制成的Mach-Zehnder光开关显示出低的开关功率,仅为1.53 mW,紧凑的移相器长度为250μm。光开关的切换时间小于4.6 ns。与相同器件长度的传统Si波导VOA相比,制成的VOA表现出30-50%的低电流工作。这些结果表明,我们提出的SiGe / Si波导结构有望用于尺寸紧凑,运行功率低的有源器件。提案,高效率なキャリア蓄积がキーとなる。それを可能とする构造として,我々は,SiGe / Si细线导波路构造を将している。本构造构造は,SiGe / Siヘテロ构造のキャリア闭じ込め效果では,キャリアプラズマをズマを利用するデバイスにおいて,SiGeよりなる导波路コア领域への高效率なキャリア注入が実现できる。本报告では,我々の构造构造について,数値シミュレーシヨンにおけるその效果の検证と,実际に作制した光スィツチおよび可変光减衰器(VOA)における小型,省电力动作,ならびに高速动作特性について报告する.SiGe / Si细线导波路光スィッチにおいて,位相シフタ长250μmと小型ながら,1.53mWの低消费电力でススッチング动作および,高速駆动时において4.6ns以下の高速スイッチンチ现した。また,SiGe / Si导波路型VOAにおいて,従来のSi细线构造VOAと比较して,同じ素子长において30-50 %の省电流化を実现した。これらの结果は,我々の进行するSiGe / Si构造が,シリコンプラットフオーム上のアクティブデバイスの小型化,低电力化に有效であることを示した。

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