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CMOSチップ上周期配列ダミーメタルフィルの等価異方性媒質定数の抽出

机译:CMOS芯片上周期阵列虚拟金属填充的等效各向异性介质常数的提取

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摘要

単位セルの固有値解析を用いたCMOSチップ上周期配列ダミーメタルフィルの等価異方性媒質定数の抽出を行った。60GHzにおいて自空間波長5mmの1/1000の5μm角のダミーメタルフィルを25%の面積密度で配置した場合について検討した。ダミーメタルフィルは人工誘電体として振る舞い、等価比誘電率は間の絶縁体SiO_2よりも大きくなることがわかった。また、ダミーメタルフィルの損失、すなわちアルミニウムの導電率を考慮したので、等価誘電正接も得られた。有限長のダミーメタルフィル入り平行平板導波路の実モデルおよび等価媒質モデルの解析値の比較から、等価媒質定数の有効性が確認できた。%Equivalent anisotropic material property of periodically arranged dummy metal fills in a CMOS chip is extracted using eigenmode analysis of a unit-cell. 5μm-squared dummy metal fills, whose size is 1/1000 of the free space wavelength at 60GHz, is considered. It is found that dummy metal fills act as artificial dielectric material, and its equivalent dielectric constant becomes larger than that of filling insulator SiO_2. The equivalent loss tangent is also obtained because the conductivity of the dummy metal fills, aluminum, is considered. The validity of the equivalent material property is confirmed by comparing the calculated results of the real model and equivalent material property model of a finite-length parallel-plate waveguide filled with dummy metal fills.
机译:使用单位晶格的特征值分析提取了CMOS芯片上周期阵列伪金属填充物的等效各向异性介质常数。在60 GHz下,我们研究了以25%的面积密度布置空间波长为5 mm的1/1000 5μm方形虚拟金属填充物的情况。发现伪金属填充物充当人造电介质,并且等效相对介电常数大于绝缘体SiO_2的等效介电常数。此外,由于考虑了虚设金属填充物的损失,即铝的导电性,因此也获得了等效的介电损耗角正切。通过比较实模型和平行板波导的有限介质虚拟金属填充物的等效介质模型的分析值,可以确认等效介质常数的有效性。使用单位晶格的本征模分析提取CMOS芯片中周期性排列的伪金属填充物的当量各向异性材料%。考虑5μm平方的伪金属填充物,其大小为60GHz的自由空间波长的1/1000。发现伪金属填充物起着人造介电材料的作用,其等效介电常数变得比填充绝缘体SiO_2的等效介电常数大。由于考虑了伪金属填充物的电导率,还获得了等效损耗角正切。通过比较实模型和填充有假金属填充物的有限长度平行板波导的等效材料特性模型的计算结果,可以确定等效材料特性的变化。

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