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小電流DC真空アークの挙動と維持特性に及ぼす磁界の効果

机译:磁场对小电流直流真空电弧行为和维持特性的影响

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摘要

真空中のアーク放電は真空遮断器,金属イオンを用いた薄膜生成や各種材料の表面改質など,工学的に広く利用されている。最近では小型人工衛星の姿勢制御用スラスターのイオン源としても注目されており,継続時間が100μS程度のパルスアーク金属イオン源が開発されつつある。しかし,一般的に小電流の真空アークを安定して維持することは難しく短時間で消弧するため,アークを積極的に応用しているのは,大電流アークあるいはパルスアークに限られており,10A 程度の小電流直流アークを応用している例は見当らない。そこでもし,小電流のアークを安定して維持することができれば,電極の消耗を極力抑えた金属イオン源等,工学的な応用が広がると思われる。
机译:真空中的电弧放电已广泛用于工程中,例如真空断路器,使用金属离子形成薄膜以及对各种材料进行表面改性。近来,作为用于小型卫星的姿态控制的推进器的离子源已经引起了人们的注意,并且持续时间约100μS的脉冲电弧金属离子源正在被开发。但是,通常难以稳定地维持小电流的真空电弧并在短时间内熄灭,因此,正向电弧施加仅限于大电流的电弧或脉冲电弧。未发现施加约10A的小电流DC电弧。因此,如果可以稳定地维持小电流电弧,则可以认为工程应用将扩大,例如使电极磨损最小化的金属离子源。

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