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机译:电气和SEM CD测量对二进制和交替孔径相移掩模的比较
Dept. of Electron. & Electr. Eng. Univ. of Edinburgh UK;
phase shifting masks; size measurement; scanning electron microscopy; integrated circuit testing; antireflection coatings; binary masks; alternating aperture phase-shifting masks; electrical CD measurements; SEM CD measurements; optical lithography;
机译:在二进制和交替孔径相移掩模上进行电学和SEM CD测量的比较
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