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机译:X和K频段SiGe HBT LNA具有1.2dB和2.2dB的平均噪声系数
Elec. and Comp. Eng., Universityn of California, San Diego, La Jolla, United States;
Impedance; Inductors; K-band; Metals; Noise; Silicon germanium; Transistors; K-band; SiGe HBT; X-band; low-noise amplifier (LNA); satellite communications;
机译:增加对噪声系数影响最小的大型HBT LNA的带宽
机译:增加对噪声系数影响最小的大型HBT LNA的带宽
机译:具有增益增强且无噪声系数下降的4 GHz跨级匹配SiGe HBT LNA
机译:具有2.14 dB平均噪声系数的封装单端K波段SiGe LNA
机译:完全集成的电感退化硅锗HBT LNA的噪声系数优化。
机译:SiGe HBT局部应力过程中Au / Pt / Ti-Si3N4界面缺陷和反应的STEM纳米分析
机译:增加siGe HBT LNa的带宽,对噪声系数的影响最小
机译:K波段si / siGe HBT mmIC放大器采用集成无源元件和微机械结构