机译:IBM X射线光刻设施的设计注意事项
机译:IBM Advanced Lithography Facility中的X射线光刻束线
机译:IBM X射线光刻技术,1980-1992年,发展年代
机译:IBM Synchrontron X射线源用于光刻的性能
机译:评估IBM Advanced Lithography Facility x射线ste中的碳化硅x射线掩模覆盖性能
机译:低速轴流压缩机研究设施的机械设计注意事项。
机译:用光刻法对金属-氧化物外延隧道结进行X射线衍射成像:使用聚焦和未聚焦X射线束
机译:威斯康星大学X射线光刻中心X射线光刻束线的铍窗和声延迟线设计
机译:软X射线投影光刻中的波长考虑因素。