Plasmaquellen in kalter Atmosphäre für die Oberflächenbehandlung

摘要

Using a new type of plasma source, even temperature-sensitive materials and surfaces can be treated. Starting with an account of its laboratory-scale beginnings, the so-called Fused Hollow Cathode (FHC) system is described with a discussion of the energy and material fluxes one might expect from a full-scale industrial version. A development of this plasma source operates as a microwave plasma which can be precisely controlled and thus create the desired surface condition, both on flat and three-dimensional components.%Mit einer neuen Art von Plasmaquellen ist es möglich, temperaturempfindliche Substrate zu bearbeiten. Ausgehend von ersten Laboranwendungen wird für die so genannte Fused Hollow Cathode (FHC) aufgezeigt, welche Energien und Materieströme bei einer entsprechenden industriellen Anwendung zu erwarten sind. Eine Abwandlung dieser Plasmaquelle arbeitet mit einem Mikrowellenplasma, mit der eine sehr gute Kontrolle der Plasmaparameter sowie eine gute Beaufschlagung der Oberfläche auch auf dreidimensionale Bauteile möglich ist.