Der C-CVD-Prozess: schnell und kostengünstig zu dünnen funktioneilen Schichten - Stand und Ausblick

摘要

Das unter Normaldruck arbeitende Verfahren C-CVD (Combustion Chemical Vapour Deposition) ermöglicht die Beschichtung von Werkstoffen, die kaum thermisch belastet werden können. Zudem ist die kontinuierliche Beschichtung von Bandmaterial möglich, wodurch die Beschichtungskosten sinken. Dafür wurden spezielle Brennertypen untersucht und weiterentwickelt. Interessante Schichten entstehen durch Auftragen von Wolframoxid, phosphorhaltige Schichten oder elementarem Silber.