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Diode Schottky sur diamant CVD Simulation, réalisation technologique et étude de protection périphérique

机译:CVD金刚石上的肖特基二极管的仿真,技术实现和外围保护研究

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摘要

Le diamant est un semi-conducteur grand gap aux propriétés exceptionnelles qui en font un matériau idéal pour l'électronique de puissance. Son utilisation devrait permettre le développement d'une nouvelle génération de dispositifs avec des performances jamais atteintes à ce jour, notamment dans le domaine des applications à forte puissance et/ou haute température. Dans cet article, nous présentons le développement de la filière technologique nécessaire à la réalisation de composants sur diamant. Nous présentons ici l'état actuel de nos travaux selon deux axes ; d'une part la plate-forme de simulation développée sur le support Sentaurus TCAD, et d'autre part le développement de différentes briques technologiques nécessaire à la réalisation des premières diodes Schottky. Ces résultats nous permettent de discuter de la qualité du matériau et de nos procédés.%Diamond is a wide band gap semiconductor material with outstanding properties for power electronic applications. Its use as an electronic material should allow the rise of a new generation of devices with performance ever achieved to date, particularly in high power and/or high temperature application field. In this paper, we present the development of diamond processing technology for high power electronic devices. The current state of work is illustrated by p-type CVD diamond Schottky barrier diode Sentaurus TCAD simulations, carrying out and an extensive study of edge termination techniques. The material quality and our processes are discussed in light of the obtained results.
机译:金刚石是一种具有特殊性能的大间隙半导体,使其成为电力电子的理想材料。它的使用应允许开发具有迄今为止尚未达到的性能的新一代设备,尤其是在大功率和/或高温应用领域。在本文中,我们介绍了在钻石上生产零件所必需的技术领域的发展。在这里,我们从两个方面介绍了工作的当前状态。一方面,在Sentaurus TCAD支持下开发了仿真平台,另一方面,开发了实现第一个肖特基二极管所需的不同技术模块。这些结果使我们可以讨论材料的质量和工艺。%金刚石是一种宽带隙半导体材料,在电力电子应用中具有出色的性能。它作为一种电子材料的使用应该可以使具有高性能的新一代设备兴起,特别是在大功率和/或高温应用领域。在本文中,我们介绍了用于大功率电子设备的金刚石加工技术的发展。 p型CVD金刚石肖特基势垒二极管Sentaurus TCAD仿真说明了当前的工作状态,并进行了边缘终止技术的广泛研究。根据获得的结果讨论了材料质量和我们的过程。

著录项

  • 来源
    《European journal of electrical engineering》 |2011年第5期|p.553-567|共15页
  • 作者单位

    CNRS LAAS 7, avenue du Colonel Roche, F-31077 Toulouse,Université de Toulouse UPS INSA INP ISAE LAAS F-31077 Toulouse;

    CNRS LAAS 7, avenue du Colonel Roche, F-31077 Toulouse,Université de Toulouse UPS INSA INP ISAE LAAS F-31077 Toulouse;

    Université de Toulouse UPS INSA INP ISAE LAAS F-31077 Toulouse,Université de Lyon INSA de Lyon Laboratoire AMPERE CNRS 21, avenue Jean Cappelle, F-69621 Villeurbanne Cedex;

    CNRS LAAS 7, avenue du Colonel Roche, F-31077 Toulouse,Université de Toulouse UPS INSA INP ISAE LAAS F-31077 Toulouse;

    CNRS LAAS 7, avenue du Colonel Roche, F-31077 Toulouse,Université de Toulouse UPS INSA INP ISAE LAAS F-31077 Toulouse;

    Université de Toulouse UPS INSA INP ISAE LAAS F-31077 Toulouse,LAPLACE (Laboratoire Plasma et Conversion d'Energie)118, route de Narbonne, F-31062 Toulouse Cedex 9;

    Université de Lyon INSA de Lyon Laboratoire AMPERE CNRS 21, avenue Jean Cappelle, F-69621 Villeurbanne Cedex;

    CNRS LIMHP Université Paris 13 99, avenue JB Clément, F-93430 Villetaneuse;

    CNRS LIMHP Université Paris 13 99, avenue JB Clément, F-93430 Villetaneuse;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 fre
  • 中图分类
  • 关键词

    diamant; grand gap; électronique de puissance.;

    机译:钻石;差距大;电力电子。;
  • 入库时间 2022-08-18 01:41:28

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