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Low-power implantable CMOS bipolar Gaussian monocycle pulse generator

机译:低功率可植入CMOS双极高斯单周期脉冲发生器

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摘要

A novel CMOS bipolar Gaussian monocycle pulse generator consisting of single to differential circuit, narrow pulse generator and Gaussian pulse-shaping circuit is presented. Without traditional LC filtering or multi-channel pulses combination, the proposed generator can be low power and low complexity. Fabricated in a 180 nm standard CMOS process, the test results show that the bipolar Gaussian monocycle pulse can be generated correctly, the power consumption is 1 mW at 200 MHz pulse repeating frequency and the chip core area is only 0.08 mm2under the power supply of 1.8 V, demonstrating the proposed generator with the advantages of low power and low complexity is suitable for implantable IR-UWB transmitter.
机译:提出了一种由单到差分电路,窄脉冲发生器和高斯脉冲整形电路组成的新型CMOS双极高斯单周期脉冲发生器。如果没有传统的LC滤波或多通道脉冲组合,则所提出的发生器可能功耗低,复杂度低。测试结果表明,采用180 nm标准CMOS工艺制造的双极性高斯单周期脉冲可以正确产生,在200 MHz脉冲重复频率下的功耗为1 mW,在1.8电源下,芯片核心面积仅为0.08 mm2 V,证明了所提出的发生器具有低功率和低复杂度的优点,适用于植入式IR-UWB发射机。

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