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机译:将两端口潜电流消除方案扩展为3D垂直RRAM交叉开关阵列
Department of Electrical and Computer Engineering;
Inter-University Semiconductor Research Center, Seoul National University, Seoul, South Korea;
Inter-University Semiconductor Research Center, Seoul National University, Seoul, South Korea;
Department of Electrical and Computer Engineering;
Resistance; Sensors; Switches; Integrated circuit modeling; Current measurement; Degradation; Stacking;
机译:基于两端口电流模式感测的具有潜行电流消除的交叉电阻切换存储器读取方案
机译:使用改进的集总法分析单元变异性对3-D垂直RRAM(VRRAM)交叉开关阵列的影响
机译:使用基于忆阻器的一个肖特基二极管一电阻阵列解决交叉开关RRAM器件中的潜行路径问题
机译:用于设计GB级3-D 1S1R水平堆叠RRAM和垂直RRAM阵列的高效模型
机译:Memristor CrossBar阵列测试使用潜行路径
机译:后摩尔内存技术:RRAM CrossBar阵列和解决方案上的潜行路径电流(SPC)现象
机译:Memristor CrossBar阵列使用潜行路径测试
机译:应用于太阳耀斑的垂直电流片的三维描述