机译:用不同离子等离子体方法制备的Ti class =“ style1”> 1-x span> Al class =“ style1”> x span> N薄膜的物理和力学性能。
机译:脉冲直流沉积Ti {sub} 1-xAl {sub} xN-硬质涂层的力学性能,结构和氧化行为。等离子体辅助化学气相沉积(PACVD)
机译:沉积条件对通过EB-PVD(加IBAD)方法制备的Sm2O3掺杂的CeO2薄膜的电气和机械性能的影响。压痕时被膜与基材的关系
机译:溶胶-凝胶法制备Zn1-xn Aln xn O:NiO透明金属氧化物复合薄膜的光学性质
机译:DC-磁控溅射制备的Ti {Sub}(1-x)Ta {Sub} XN薄膜
机译:评估用于金属植入物的溶胶-凝胶陶瓷薄膜:Ti6Al4V上氧化锆薄膜的加工和力学性能研究
机译:在不同环境条件下制备的Ti掺杂ZnO薄膜:电子结构和磁性能
机译:目标功率对直流磁控溅射制备Ti薄膜物理性能的影响
机译:通过mOCVD和RF溅射制备的srTiO(sub 3)(100)上异质外延pb(Zr(sub 0.35)Ti(sub 0.65))O(sub 3)/ srRuO(sub 3)多层薄膜的结构和性质